小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為150W直流電源，可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口，可以通入保護性氣體，若客戶需要通入混合氣體，可以聯系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。

本設備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。

小型單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：

該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，經過小型化設計，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。 

小型單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：

產品名稱	桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
產品型號	CY-MSZ254-I-DC-SS
樣品臺	外形尺寸	φ100mm
	加熱溫度	≦500℃
	可調轉速	≦20rpm
磁控靶槍	配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體	腔體尺寸	φ254mm X 300mm
	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	304不銹鋼
	開啟方式	上蓋拆卸式
真空系統	前級泵	低噪音雙極旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速渦輪分子泵
	真空測量	復合真空計，量程:10-5~105Pa
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	系統真空	1.0×10-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置	電源數量	直流電源一套
	輸出功率	直流電源300W
其他參數	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機功率	2kW
	整機尺寸	550mm X 350mm X450mm