- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號樣品臺采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺左右推動(dòng)。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備
技術(shù)參數(shù)：
|
項(xiàng)目 |
明細(xì) |
|
|
產(chǎn)品型號 |
CY-MSH500S-100F-II-DCRF-SS |
|
|
供電電壓 |
AC220V，50Hz |
|
|
整機(jī)功率 |
4KW |
|
|
極限真空度 |
5x10-4Pa |
|
|
載樣臺參數(shù) |
尺寸 |
100mm x 100mm |
|
往復(fù)行程 |
200mm |
|
|
磁控濺射頭參數(shù) |
數(shù)量 |
2個(gè)2”磁控濺射頭 |
|
冷卻方式 |
水冷，所需流速10L/min |
|
|
水冷機(jī)規(guī)格 |
10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ500mm X 490mm H |
|
腔體材料 |
不銹鋼 |
|
|
觀察窗口 |
φ100mm |
|
|
開啟方式 |
前開門式 |
|
|
氣體流量控制器 |
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar |
|
|
真空泵 |
配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S |
|
|
膜厚儀 |
石英振動(dòng)薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ? |
|
|
濺射電源 |
直流電源1臺，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜 |
|
|
操作方式 |
CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) |
|
|
整機(jī)尺寸 |
1090mm X 900mm X 1250mm |
|
|
整機(jī)重量 |
350kg |
|
