本設備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機構，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復雜樣品臺的功能型。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設備結構緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗。

行星式單靶磁控鍍膜儀技術參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	行星式單靶磁控鍍膜儀
產(chǎn)品型號	CY-MSZ180-50X-I-DC-Q
樣品臺	外形尺寸	φ50mm
	加熱溫度	≦500℃
	可調(diào)轉(zhuǎn)速	≦20rpm
磁控靶槍	配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體	腔體尺寸	φ180mm X100mm
	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	高純石英
	開啟方式	上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)	前級泵	低噪音雙極旋片泵
	分子泵	低噪音大抽速渦輪分子泵
	真空測量	復合真空計，量程:10-5~105Pa
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	系統(tǒng)真空	1.0×10-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置	電源數(shù)量	直流電源一套
	輸出功率	500W
其他參數(shù)	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機功率	2kW
	整機尺寸	550mm X 350mm X400mm