帶振動樣品臺的三靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。

磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩定工作。

設備配有變頻振動的震動型樣品臺，可以將放置在上面的粉末或者顆粒不規則的翻動，以確保在鍍膜過程中所有的顆粒的表面能包覆上鍍層，避免鍍膜不勻的情況，是專為顆粒型樣品所設計的PVD設備。

三靶磁控濺射鍍膜儀技術參數：

項目		明細
供電電壓		AC220V，50Hz
整機功率		6KW
極限真空度		5x10-4Pa
載樣臺參數	尺寸	φ150mm
	振動方式	變頻電機驅動齒輪
磁控濺射頭參數	數量	斜置3個2”磁控濺射頭 與垂直方向夾角15°
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機規格	10L/min流速的循環水冷機
真空腔體	腔體尺寸	φ300mm X 340mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	上頂開式，便于更換靶材
氣體流量控制器		1路200sccm Ar；
真空泵		配有一套分子泵系統，抽速600L/S
膜厚儀		石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?
濺射電源		直流電源2臺，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜
操作方式		一體機電腦操作
整機尺寸		1090mm X 900mm X 1250mm
整機重量		350kg